全自動(dòng)反滲透純水設(shè)備EDI模塊工作原理詳細(xì)描述
來(lái)自城市水源的水中含有鈉、鈣、鎂、氯化物、硝酸鹽、碳酸氫鹽、二氧化硅等溶解鹽。這些鹽由帶負(fù)電的離子（anion）和帶正電的離子（cation）組成。98%以上的離子都可以通過(guò)反滲透（RO）處理得以去除。城市的水源還含有有機(jī)物、溶解氣體（如：O2，、CO2）、微量金屬和其它微電離的無(wú)機(jī)化合物，這些雜質(zhì)在工業(yè)應(yīng)用過(guò)程當(dāng)中必須去除（如硼和硅）。RO系統(tǒng)和其預(yù)處理也可以去除許多這些雜質(zhì)。
RO反滲透純凈水設(shè)備產(chǎn)水的電導(dǎo)率理想范圍一般在4-20S/cm，全自動(dòng)反滲透純水設(shè)備而根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域的不同，超純水或去離子水的電阻率一般在2-18.2MΩ.cm之間。通常，EDI進(jìn)水離子越少，其產(chǎn)品水質(zhì)量越高。
EDI工藝從水中去除不想要的離子，依靠在淡水室的樹(shù)脂吸附離子，然后將它們遷移到濃水室中。
離子交換反應(yīng)在模塊的淡水室中進(jìn)行，在那里陰離子交換樹(shù)脂釋放出氫氧根離子（OH-）而從溶解鹽（如氯化物、Cl-）中交換陰離子。同樣，陽(yáng)離子交換樹(shù)脂釋放出氫離子（H+）而從溶解鹽中(如鈉、Na+)交換陽(yáng)離子。
從水流中去除離子的吸附步驟，全自動(dòng)反滲透純水設(shè)備在模塊中的停留是有限的（近似10~15秒）。當(dāng)被吸附時(shí)，離子僅僅被外在的直流電場(chǎng)驅(qū)動(dòng)遷移。
一個(gè)直流（DC）電場(chǎng)通過(guò)放置在組件一端的陽(yáng)極（+）和陰極（-）實(shí)現(xiàn)。電壓驅(qū)動(dòng)這些被吸收的離子沿著樹(shù)脂球的表面移動(dòng)，然后穿過(guò)離子選擇性膜進(jìn)入濃水室。直流電場(chǎng)也裂解水分子形成氫氧根離子和氫離子：
H2O=OH-+H+
離子交換膜由垂直線(xiàn)表示，這些垂直線(xiàn)根據(jù)離子穿透性的不同標(biāo)注成不同的幾項(xiàng)。因?yàn)檫@些離子選擇性膜不允許水穿過(guò)，所以他們對(duì)水流來(lái)說(shuō)是個(gè)屏障。
帶負(fù)電的陰離子（如OH-、Cl-）被吸引到陽(yáng)極（+）,并且被陰極排斥。這些離子穿過(guò)陰離子選擇性膜，進(jìn)入相鄰的濃水室，而不會(huì)穿過(guò)相鄰的陽(yáng)離子選擇性膜，并滯留在濃水室，并隨濃水流出濃水室。在淡水室中帶正電的陽(yáng)離子（如H+、Na+）被吸引到陰極（-）,并且被陽(yáng)極排斥。這些離子穿過(guò)陽(yáng)離子選擇性膜進(jìn)入臨近的濃水室，全自動(dòng)反滲透純水設(shè)備他們?cè)谀抢锉慌R近的陰離子選擇性膜阻擋，并隨濃水流出濃水室。
在濃水室中，仍然維持電中性。從兩個(gè)方向輸送過(guò)來(lái)的離子彼此相互中和。從電源流過(guò)來(lái)的電流跟移動(dòng)離子的數(shù)目成比例。水裂解離子（H+和OH-）和現(xiàn)存的離子都被遷移并且被加到所要求的電流之中。
當(dāng)水流流過(guò)兩種不同類(lèi)型的腔體時(shí)，淡水室中的離子就會(huì)*被去除，同時(shí)被收集到鄰近的濃水流之中，這就可以從模塊中帶走被去除了的離子。
在淡水室和（或）濃水室中使用離子交換樹(shù)脂是EDI的關(guān)鍵技術(shù)和。在淡水室中還會(huì)發(fā)生一個(gè)重要現(xiàn)象，在電勢(shì)梯度高的特定區(qū)域，電化學(xué)“分解”能夠使水產(chǎn)生大量的H+和OH-離子。這些區(qū)域中產(chǎn)生的H+和OH-離子在混合的離子交換樹(shù)脂中可以使樹(shù)脂和膜不斷再生，并且不需要外加化學(xué)試劑。
合格的全自動(dòng)反滲透純水設(shè)備對(duì)于EDI理想的性能表現(xiàn)和EDI系統(tǒng)*工作是一個(gè)基本要求（實(shí)際上對(duì)于任何基于離子交換樹(shù)脂的去離子系統(tǒng)都是這樣）。進(jìn)水流中的污染物質(zhì)對(duì)去離子組件會(huì)產(chǎn)生負(fù)面影響，要么增加維修頻率，要么減少模塊的使用壽命。因此，RO反滲透系統(tǒng)的品質(zhì)和它的預(yù)處理是需要審定的。
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更新時(shí)間：2017-01-16 
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